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산업 전문가가 아니라, 투자자가 공부할 목적으로 작성한 자료입니다.  SK하이닉스에서 작성해 주신 아래 자료들을 유용하게 활용했습니다.  

 

[반도체 특강] 화학적으로 막을 성장시키는 방법, CVD(Chemical Vapor Deposition)

2019.04.10 | by 진종문 반도체 칩이 ON/OFF 스위칭의 전기적 신호를 빠른 속도로 처리하려면 막을 얇고 균일하게, 시간 변수에도 오래 버틸 수 있도록 형성해야 합니다. 반도체 트랜지스터를 만들 때

news.skhynix.co.kr

 

 

[반도체 특강] PVD, 전자가 이동하는 도로를 만들다

2018.08.22 | by 진종문 지난 강의를 통해 트랜지스터의 3개 단자인 소스/드레인/게이트를 완성했습니다. 이제는 3개 단자에 전압을 가하거나 전류를 빼내어 트랜지스터를 동작시킬 수 있도록 단자

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[반도체 특강] ALD, 원자를 이용해 박막을 만드는 방법

2018.09.13 | by 진종문 트랜지스터가 점유하는 체적을 지속적으로 축소시키기 위해서는 표면을 둘러싸고 있는 막의 두께를 줄여야 합니다. 반면, 박막 내 막질 조성과 트랜지스터의 전기적 특성은

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증착공정은 반도체를 구동하기 위해서 필요한 다양한 물질을 웨이퍼 위에 박막으로 형성하는 과정이다. 그냥 정말 단순하게 표현하면 이런 상태... 

https://news.skhynix.co.kr/1780

증착 공정의 종류에 대해 구체적으로 나눈다면 아래와 같이 분류. 증착공정은 크게 물리적인 방식인 PVD와 화학적인 방식인 CVD로 나뉜다. Chemical / Physical Vapor Deposition. 

https://www.skcareersjournal.com/tag/%EB%B0%95%EB%A7%89%EC%A6%9D%EC%B0%A9%20%EA%B3%B5%EC%A0%95

아래 네이버 블로그에서 PVD 공정을 굉장히 자세히 다뤄주셨다... 

 

F[SeMi뀨의 반도체/디스플레이 강의] PVD(물리 증착법), CVD(화학 증착),PECVD, ALD(원자층 증착법), 플라

증착법은 3가지로 나누어지게 됩니다. 물리적증착 PVD[physical vapor deposition] 화학적증착 CVD[...

blog.naver.com


PVD는 크게 증발 방식과 스퍼터링 방식으로 나뉘는데, (1) 증발 방식은 진공 상태에서 열을 이용해 물질을 증발시켜 증착하는 방식이고, (2) 스퍼터링은 높은 에너지를 가진 이온을 금속 판에 충돌시켜, 여기서 떨어져 나온 금속 입자가 웨이퍼 위에 눈처럼 쌓이도록 하는 것.

SK 하이닉스 블로그에 따르면 증발 방식이 가장 단순한 방식으로 단일 원소 증착에 사용하나, 효율이 높지는 않아서 많이 사용하지 않는다고 한다. 

https://news.samsungdisplay.com/21962/

 

스퍼터링 기준으로 이렇게 물리적으로 박막을 입히는 공정이다 보니, CVD와 비교해서 아래와 같은 특징이 있다고 한다. (1) 화학적 방식에 비해 온도가 낮고 (2) 진공에서 단일 소재를 사용하니 오염이나 파티클이 덜하다는 강점이 있으나. (1) CVD에 비해 접착성이 떨어지고 치밀성도 떨어진다는 단점이 있다고 한다. 

https://news.skhynix.co.kr/1780

일반적으로 CVD에서 (a)와 같은 이상적인 증착형태를 확인할 수 있는데, PVD의 경우 가까운 곳이 더 많이 되고 멀면 증착이 덜 되는 특성 때문에, (b)나 (c)와 같은 형태들이 생긴다고 한다. 

https://m.blog.naver.com/jgw1030/221180767538

 

 

 

증착공정 - (2) CVD 증착방식

증착공정 - (1) 큰 분류와 PVD 증착방식 산업 전문가가 아니라, 투자자가 공부할 목적으로 작성한 자료입니다.  SK하이닉스에서 작성해 주신 아래 자료들을 유용하게 활용했습니다. [반도체 특강]

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